抛光液的主要产品可以按主要成分的不同分为以下几大类：金刚石抛光液（多晶金刚石抛光液、单晶金刚石抛光液和纳米金刚石抛光液）、氧化硅抛光液（即CMP抛光液）、氧化铈抛光液、氧化铝抛光液和碳化硅抛光液等几类。

CMP技术综合了化学和机械抛光的优势：单纯的化学抛光，抛光速率较快，表面光洁度高，损伤低，平整性好，但表面平整度和平行度差，抛光后表面一致性差；单纯的机械抛光表面一致性好，表面平整度高，但表面光洁度差，损伤层深。化学机械抛光可以获得较为平整的表面，又可以得到较高的抛光速率，得到的平整度比其他方法高两个数量级，是能够实现全局平面化的有效方法。

CMP技术还广泛的应用于集成电路(IC)和超大规模集成电路中(ULSI)对基体材料硅晶片的抛光。随着半导体工业的急速发展，对抛光技术提出了新的要求，传统的抛光技术（如：基于淀积技术的选择淀积、溅射等）虽然也可以提供“光滑”的表面，但却都是局部平面化技术，不能做到全局平面化，而化学机械抛光技术解决了这个问题，它是可以在整个硅圆晶片上平坦化的工艺技术。

乳化蜡用作皮革光亮剂、消光剂和手感剂等 人们对皮革制品的外观有两大类要求，一是增加皮革光泽， 如打光革、漆革、抛光效应革等；另一种是不要光泽感，使皮革呈现感、自然美。前者需要用到光亮剂，后者需要用到消光剂。选用不同的蜡乳液用于皮革顶层涂饰时，有的可增加皮革光泽感或光亮度，有的可产生消光作用呈现风韵。产生光亮作用的蜡乳液粒径要求很小，组成比较单一，在皮革表层形成一层均相且连续的蜡的薄膜，微观上薄膜很平滑，对光波产生较强烈的反射作用，从而具有光泽感；产生消光作用的蜡乳液粒径较大，在皮革表面形成一种非均相且微观上不平整的表面，对光波产生强烈的散射作用，散射作用是消光剂产生消光作用的根本原因。